介紹:溶于酸,不溶于沸水及堿性溶液中,在濕空氣中能形成氫氧化物薄膜。
熔點(diǎn):157°C
沸點(diǎn):2000°C
儲(chǔ)存條件:密封充氬保存。
用途:主要用作包覆層(或制成合金)以增強(qiáng)金屬材料的耐腐蝕性,并廣泛用作電子器件。合金涂層作反射器。銦合金用作反應(yīng)堆控制棒等。磷化銦銻化銦等都是半導(dǎo)體材料。
熔點(diǎn):157°C
沸點(diǎn):2000°C
儲(chǔ)存條件:密封充氬保存。
用途:主要用作包覆層(或制成合金)以增強(qiáng)金屬材料的耐腐蝕性,并廣泛用作電子器件。合金涂層作反射器。銦合金用作反應(yīng)堆控制棒等。磷化銦銻化銦等都是半導(dǎo)體材料。